나노융합기술교육 안내
나노융합기술교육(나노측정분석) 안내
1. 교육 일시 : 2016.12.19.(월) ~ 12.20.(화) (2일)
2. 교육 장소 : 포항공과대학교 나노융합기술원
3. 교육 대상 : 관련학과 학부생 및 대학원생 13명 이내
(신청인원이 초과될 경우, 특성화사업 참여학과의 학부생 우선)
4. 교육 일정 : 대구대 출발(9시) → NINT교육(10시~17시) → 대구대 도착(18시)
(※ 통학버스는 중앙기기원에서 제공)
5. 교육 내용
○ 교육개요
- 반도체, MEMS, OLED, 재료 및 분석분야 박사급 연구원 이론강의
- 이론강의와 연계한 실습교육 병행
- 전체적인 실습교육 프로그램과 더불어 희망 장비 심화교육으로 편성
○ 실습장비
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장비명 |
활용용도 |
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HR FE-SEM |
FE-SEM 장비를 통한 이미지 형상화 |
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Dual Beam FIB |
FIB 장비를 통해 TEM, 3DAP 시편 제작 |
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SIMS |
2차이온 분석 실습 |
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SPM System |
원자탐침현미경 기초 습득 |
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Sample Prep. |
TEM / 3DAP / FIB 시편 제작 |
나노융합기술교육(나노소자공정) 안내
1. 교육 일시 : 2016.12.21.(수) ~ 12.22.(목) (2일)
2. 교육 장소 : 포항공과대학교 나노융합기술원
3. 교육 대상 : 관련학과 학부생 및 대학원생 13명 이내
(신청인원이 초과될 경우, 특성화사업 참여학과의 학부생 우선)
4. 교육 일정 : 대구대 출발(9시) → NINT교육(10시~17시) → 대구대 도착(18시)
(※ 통학버스는 중앙기기원에서 제공)
5. 교육 내용
○ 교육개요
- 반도체 Fabrication 공정인 포토, 에칭, 확산, 박막 공정 이해
- 각 파트의 장비개요 및 작동법 습득
- 전공정 이해를 통한 반도체 생산라인 이해
○ 실습장비
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장비명 |
활용용도 |
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Laser Lithography Sys |
포토공정 실습 |
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Atomic Layer Deposition | |
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E-Beam Lithography SysⅠ | |
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E-Beam Lithography SysⅡ | |
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Mask Aligner for NEMS | |
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NEMS Base System | |
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Atomic Layer Deposition |
확산공정 실습 |
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UHV-CVD | |
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Sputter - 1 | |
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Furnace | |
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E-Beam Evaporator | |
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LP-CVD System |
박막공정 실습 |
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PE-CVD-1 | |
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Dry Etcher_ICP |
에칭공정 실습 |
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Dry Etcher_20nm급 | |
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Wet Station_Acid System | |
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CD-SEM | |
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Process Monitoring System | |
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Deep Reactive Ion Etcher |
